EHC-MPE-501紫外偏光曝光/光配向装置

EHC-MPE-501紫外偏光曝光/光配向装置简要概述

紫外偏光曝光·光配向装置MPE-501-EHC是一款专为液晶显示面板(LCD)及有机EL(OLED)研发与工艺实验设计的高精度桌面型光配向处理设备。该装置采用500W汞氙灯作为深紫外光源，配合高精度光学积分器与冷镜系统，能够输出均匀性且具有消光比的线偏振紫外光。设备通过非接触式的光照，在配向膜表面引发各向异性光化学反应，实现对液晶分子的精准定向排列，是替代传统摩擦配向工艺、提升面板良率与

工作原理

MPE-501-EHC基于线性偏振紫外光引发光化学反应的原理进行工作。

根据液晶配向理论，当特定波长的深紫外光以线偏振态照射在聚酰亚胺(PI)配向膜表面时，配向膜高分子链会在垂直于入射光偏振方向的选择性光分解或交联，从而在微观层面形成各

向异性的“纳米沟槽"结构。

特点

·非接触式光配向工艺:杜绝传统绒布摩擦工艺产生的静电击伤与粉尘污染，大幅提升面板开口率与对比度。·高消光比偏振光学系统:消光比高达50:1以上，确保出射光偏振态纯净，为液晶分子提供强锚定能与均匀排列。

·光束平行度:准直角半角≤1.5，保证大面积照射区域内光化学反应的一致性，有效避免显示Mura(不均)现象。

·多波长可选配置:标配254nm及313nm深紫外干涉滤光片，灵活适配不同材质配向膜的工艺窗口。

·精密多维样品台:支持Z轴升降、0~50°倾斜及90°水平旋转，满足实验室对预倾角调控的苛刻研究需求。·完备的安全联锁设计:照射部配备遮光门及联锁装置，开门即断光，符合实验室与洁净间最

高安全规范。

技术规格